پرش به محتوا

میان‌هابندهای مسی

از ویکی‌پدیا، دانشنامهٔ آزاد

در فناوری نیم‌رسانا، میان‌هابندهای مسی[۱] (انگلیسی: Copper interconnects) میان‌هابندهای هستند که از مس ساخته‌شده‌اند. آنها در مدارهای مجتمع سیلیکونی (IC) برای کاهش تأخیر انتشار و مصرف توان استفاده می‌شوند. از آنجا که مس رسانای بهتری نسبت به آلومینیوم است، آی‌سی‌های استفاده‌کننده از مس برای میان‌هابندهایشان می‌توانند دارای میان‌هابندهای با ابعاد باریک‌تری بوده و انرژی کمتری را برای عبور الکتریسیته از آنها استفاده کنند. در کنار هم، این اثرات منجر به آی‌سی با عملکرد بهتر می‌شود. آنها اولین بار توسط آی‌بی‌ام، با همکاری موتورولا، در سال ۱۹۹۷ معرفی شدند.[۲][۳]

منابع

[ویرایش]
  1. Kőrösy, F.; Misler, G (1947). "A Volatile Compound of Copper". Nature. 160 (4053): 21. Bibcode:1947Natur.160...21K. doi:10.1038/160021a0. PMID 20250932. S2CID 43410902.
  2. "IBM100 - Copper Interconnects: The Evolution of Microprocessors". Retrieved 17 October 2012.
  3. Jeffries, Patrick M.; Wilson, Scott R.; Girolami, Gregory S. (1992). "Synthesis and characterization of volatile monomeric copper(II) fluoroalkoxides". Inorganic Chemistry. 31 (22): 4503. doi:10.1021/ic00048a013.