فرایند ۱ میکرومتر
فرایند ۱ میکرومتر به سطح فناوری فرایند نیم‌رسانا ماسفت که در بازه زمانی زمانی ۱۹۸۴–۱۹۸۶ تجاری شده بود،[۱][۲] و توسط شرکت‌های پیشرو نیم‌رسانا مانند: اینتل، نیپون تلگراف اند تلفن (NTT)، ان‌ای‌سی، و آی‌بی‌ام تجاری‌سازی شد، اشاره می‌کند. این اولین فرایندی بود که سیماس متداول بود (بر خلاف اِن‌ماس).
اولین ماسفت با طول کانال ان‌ماس ۱ میکرومتر توسط یک تیم تحقیقاتی به سرپرستی رابرت اچ دنارد، هووا-نین یو و اف اچ گنزلن در مرکز تحقیقات تی جی واتسون آی‌بی‌ام در سال ۱۹۷۴ ساخته شد.[۳]
محصولات دارای فرایند تولید ۱ میکرومتر
[ویرایش]- NTT فرایند ۱ میکرومتر را برای تراشه‌های حافظه تصادفی پویا (DRAM) خود معرفی کرد، از جمله تراشه ۶۴ کیلوبیت در سال ۱۹۷۹ و تراشه ۲۵۶ کیلوبیت در سال 1980.[۴]
- ان‌ای‌سی تراشه حافظه DRAM یک مگابایت را با فرایند ۱ میکرومتر در سال ۱۹۸۴ ساخت.[۵]
- سی‌پی‌یو اینتل ۸۰۳۸۶ که در سال ۱۹۸۵ راه‌اندازی شد با استفاده از این فرایند ساخته شد.[۶]
منابع
[ویرایش]- ↑ Mueller, S (2006-07-21). "Microprocessors from 1971 to the Present". informIT. Archived from the original on 2015-04-27. Retrieved 2012-05-11.
- ↑ Myslewski, R (2011-11-15). "Happy 40th birthday, Intel 4004!". TheRegister. Archived from the original on 2015-04-27. Retrieved 2015-04-19.
- ↑ Dennard, Robert H.; Yu, Hwa-Nien; Gaensslen, F. H.; Rideout, V. L.; Bassous, E.; LeBlanc, A. R. (October 1974). "Design of ion-implanted MOSFET's with very small physical dimensions" (PDF). IEEE Journal of Solid-State Circuits. 9 (5): 256–268. doi:10.1109/JSSC.1974.1050511.
- ↑ Gealow, Jeffrey Carl (10 August 1990). "Impact of Processing Technology on DRAM Sense Amplifier Design" (PDF). CORE. Massachusetts Institute of Technology. pp. 149–166. Retrieved 25 June 2019.
- ↑ "Memory". STOL (Semiconductor Technology Online). Archived from the original on 16 January 2017. Retrieved 25 June 2019.
- ↑ Mueller, S (2006-07-21). "Microprocessors from 1971 to the Present". informIT. Archived from the original on 2015-04-27. Retrieved 2012-05-11.
پیوند به بیرون
[ویرایش]| پیشین: ۱٫۵ μm process |
MOSFET semiconductor device fabrication process | پسین: 800 nm process |