انباشت بخار شیمیایی افزایش‌یافته با پلاسمای کم‌انرژی
انباشت بخار شیمیایی افزایش‌یافته با پلاسمای کم‌انرژی (انگلیسی: Low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition) CVD) از پلاسمای کم‌چگالی و کم‌انرژی برای به دست آوردن رسوب اپیتاکسیال مواد نیمه‌رسانا با سرعت بالا و دماهای پایین استفاده می‌شود.
جستارهای وابسته
[ویرایش]منابع
[ویرایش]- مشارکت‌کنندگان ویکی‌پدیا. «Low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition». در دانشنامهٔ ویکی‌پدیای انگلیسی، بازبینی‌شده در ۱۸ فوریه ۲۰۲۱.