پرونده:Locos (microtechnology) process.svg
ظاهر
حجم پیشنمایش PNG این SVG file:۳۸۵ × ۵۹۹ پیکسل کیفیتهای دیگر: ۱۵۴ × ۲۴۰ پیکسل | ۳۰۹ × ۴۸۰ پیکسل | ۴۹۴ × ۷۶۸ پیکسل | ۶۵۸ × ۱٬۰۲۴ پیکسل | ۱٬۳۱۷ × ۲٬۰۴۸ پیکسل | ۵۱۲ × ۷۹۶ پیکسل.
پروندهٔ اصلی (پروندهٔ اسویجی، با ابعاد ۵۱۲ × ۷۹۶ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۲۷ کیلوبایت)
تاریخچهٔ پرونده
روی تاریخ/زمانها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.
تاریخ/زمان | بندانگشتی | ابعاد | کاربر | توضیح | |
---|---|---|---|---|---|
کنونی | ۱۴ دسامبر ۲۰۰۹، ساعت ۱۹:۰۲ | ۵۱۲ در ۷۹۶ (۲۷ کیلوبایت) | Cepheiden | some fixes | |
۱۹ ژانویهٔ ۲۰۰۸، ساعت ۱۶:۵۳ | ۶۲۵ در ۱٬۰۰۰ (۵۶ کیلوبایت) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
کاربرد پرونده
صفحههای زیر از این تصویر استفاده میکنند:
کاربرد سراسری پرونده
ویکیهای دیگر زیر از این پرونده استفاده میکنند:
- کاربرد در ca.wikipedia.org
- کاربرد در en.wikipedia.org
- کاربرد در en.wikiversity.org
- کاربرد در fr.wikipedia.org
- کاربرد در id.wikipedia.org
- کاربرد در it.wikipedia.org
- کاربرد در ja.wikipedia.org
- کاربرد در mk.wikipedia.org
- کاربرد در nl.wikipedia.org
- کاربرد در pt.wikipedia.org